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國產(chǎn)光刻機入選工信部推廣目錄 產(chǎn)業(yè)鏈這些上市公司“有料”

每日經(jīng)濟新聞 2024-09-18 23:51:05

◎中國2023年進口光刻機數(shù)量高達225臺,進口金額高達87.54億美元,進口金額創(chuàng)下歷史新高,預計3年至5年內(nèi)我國光刻機主要依賴進口。

◎目前光刻機國產(chǎn)化率僅為2.5%,整機技術(shù)與海外差距較大,短期5—10年內(nèi)一方面重點發(fā)展90nm、28nm光刻機的研發(fā)量產(chǎn)較為關鍵,一方面重點布局國內(nèi)半導體零組件發(fā)展。

每經(jīng)記者 朱成祥    每經(jīng)編輯 梁梟    

9月9日,工信微報微信公眾號發(fā)文披露《首臺(套)重大技術(shù)裝備推廣應用指導目錄(2024年版)》。其中,在電子專用設備一欄,氟化氪光刻機、氟化氬光刻機位列其中。該資料顯示,氟化氬光刻機具有65納米以下的分辨率和8納米以下的套刻精度。

據(jù)東興證券研報,光刻機可分為直寫光刻機與掩膜光刻機,市場主流有i-Iine(汞線)、KrF(氟化氪)、ArF(氟化氬)、ArFi(浸潤式氟化氬)、EUV(極紫外)五大類。

此次入選推廣目錄的氟化氬光刻機,應屬于干式ArF光刻機。在具體指標上,與ASML旗下TWINSCAN NXT:1470以及TWINSCAN XT:1460K類似。

國產(chǎn)光刻機實力幾何?

據(jù)工信微報發(fā)文,此次指導目錄是為促進首臺(套)重大技術(shù)裝備創(chuàng)新發(fā)展和推廣應用,加強產(chǎn)業(yè)、財政、金融、科技等國家支持政策的協(xié)同。

具體來看,氟化氪光刻機晶圓直徑為300mm(12英寸);照明波長為248mm;分辨率≤110nm;套刻≤25nm。

相比之下,阿斯麥(ASML)的氟化氪光刻機型號有TWINSCAN NXT:870、TWINSCAN XT:860N和TWINSCAN XT:860M。這三個型號,波長均為248mm;分辨率≤110nm。

而指導目錄中更為先進的氟化氬光刻機,其照明波長為193mm,分辨率≤65nm;套刻≤8nm。

這一數(shù)據(jù)與ASML旗下TWINSCAN XT:1460K最為接近。該型號照明波長為193mm,分辨率≤65nm。此外,該系統(tǒng)可以在偏振照明下實現(xiàn)低至57nm的生產(chǎn)分辨率。

相比之下,ASML浸潤式光刻機TWINSCAN NXT 1980Fi分辨率≤38nm。據(jù)民生證券研報,該型號可實現(xiàn)2.5nm的套刻精度(MMO)。

據(jù)東海證券援引ASML官網(wǎng)數(shù)據(jù),2023年各類光刻機均價為EUV(17386萬歐元)、ArFi(7196萬歐元)、ArFdry(2742萬歐元)、KrF(1192萬歐元)、i-Iine(399萬歐元)。

東海證券認為,目前光刻機國產(chǎn)化率僅為2.5%,整機技術(shù)與海外差距較大,短期5—10年內(nèi)一方面重點發(fā)展90nm、28nm光刻機的研發(fā)量產(chǎn)較為關鍵,一方面重點布局國內(nèi)半導體零組件發(fā)展。

光刻機產(chǎn)業(yè)鏈亟須發(fā)展

東海證券稱,根據(jù)中國國際招標網(wǎng)信息,半導體設備招標中,刻蝕、沉積等核心設備的國產(chǎn)化率獲得了較大的提升,核心在于技術(shù)上我國相關企業(yè)已經(jīng)逐步追趕上海外企業(yè);但光刻機作為核心設備,國產(chǎn)化率不足3%,核心原因在于零組件供應與整機技術(shù)與海外差距較大。

9月18日,東方財富概念板塊中,光刻機(膠)板塊排名靠前,板塊整體漲幅達2.47%。其中,同飛股份(300990.SZ,股價28.43元,市值47.9億元)、波長光電(301421.SZ,股價35.88元,市值41.52億元)均收獲“20厘米”漲停;新萊應材(300260.SZ,股價18.13元,市值73.94億元)上漲12.40%。此外,張江高科(600895.SH,股價19.17元,市值296.88億元)、海立股份(600619.SH,股價5.93元,市值63.65億元)、凱美特氣(002549.SZ,股價5.39元,市值37.48億元)等也漲停。

張江高科受關注,主要因為其曾投資上海微電子公司。張江高科于9月10日在投資者交流平臺表示,公司通過子公司上海張江浩成創(chuàng)業(yè)投資有限公司投資了上海微電子公司2.23億元,持有上海微電子10.779%的股權(quán),后續(xù)未增持或減持。

東興證券稱,國內(nèi)企業(yè)中,上海微電子是目前中國第一家也是唯一家光刻機巨頭,出貨量已占國內(nèi)市場份額超過80%,產(chǎn)品主要涉及ArF、KrF和i-line領域,其已具備90nm及以下的芯片制造能力。

光刻機零部件方面,同飛股份曾在2023年中報表示,其液體恒溫設備在半導體制造設備領域,主要應用于光刻機、刻蝕機、研磨拋光機等關鍵設備的溫度控制。

不過,根據(jù)東興證券研報,光刻機核心組件包括光源系統(tǒng)、雙工作臺、物鏡系統(tǒng)、對準系統(tǒng)、曝光系統(tǒng)、浸沒系統(tǒng)、光柵系統(tǒng)等。配套設施包括光刻膠、掩膜版、涂膠顯影等。

光源系統(tǒng)方面,據(jù)華金證券,針對準激光光源,科益虹源主要研發(fā)248nm準分子激光器、干式193nm準分子激光器等;福晶科技(002222.SZ,股價22.05元,市值103.69億元)研發(fā)KBBF晶體。

另據(jù)東興證券,波長光電為國內(nèi)激光光學元件的主要供應商,目前,公司已具備提供光刻機配套的大孔徑光學鏡頭的能力,公司成功開發(fā)的光刻機平行光源系統(tǒng)可用于國產(chǎn)光刻機領域配套。

波長光電也曾于2023年9月15日披露投資者活動記錄表稱,公司在半導體領域主要涉及兩個領域:一個是生產(chǎn)領域,即曝光機、光刻,公司可提供大口徑光學鏡頭用于檢測,做折反、投射,還可以提供平行光源系統(tǒng);另一個是檢測領域,公司可提供檢測設備上的光學元件、組件,也可為客戶定制開發(fā)、裝調(diào)子系統(tǒng)。

物鏡系統(tǒng)方面,東興證券稱,茂萊光學(688502.SH,股價77.99元,市值41.18億元)光刻機曝光物鏡超精密光學元件加工技術(shù)已實現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化。

東海證券研報顯示,中國2023年進口光刻機數(shù)量高達225臺,進口金額高達87.54億美元,進口金額創(chuàng)下歷史新高,預計3年至5年內(nèi)我國光刻機主要依賴進口。一臺先進的光刻機有多達10萬個零部件,整體來看我國半導體零組件的國產(chǎn)化率非常低,盡管在各個賽道均有相關的國有企業(yè)在不斷發(fā)展,距離海外企業(yè)依然有較大的差距,同時也預示著國內(nèi)零組件企業(yè)公司有較大的發(fā)展機遇。

封面圖片來源:視覺中國-VCG41N970174988

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