半導(dǎo)體掩模版賽道龍頭龍圖光罩成功上市　近３年凈利復(fù)合增長率超40%

8月6日，深圳市龍圖光罩股份有限公司(以下簡稱“龍圖光罩”或公司)上市，股票發(fā)行價格為18.50元/股，發(fā)行市盈率為30.20倍。

招股書顯示，龍圖光罩是一家專注于半導(dǎo)體關(guān)鍵材料的科技創(chuàng)新型企業(yè)，主營業(yè)務(wù)為半導(dǎo)體掩模版的研發(fā)、生產(chǎn)和銷售，是國內(nèi)稀缺的獨(dú)立第三方半導(dǎo)體掩模版廠商，與國內(nèi)主流大型特色工藝晶圓制造廠商、芯片設(shè)計(jì)公司有穩(wěn)定合作關(guān)系。值得一提的是，公司已掌握130nm及以上制程節(jié)點(diǎn)半導(dǎo)體掩模版生產(chǎn)制造的關(guān)鍵技術(shù)，在半導(dǎo)體掩模版行業(yè)步入“國產(chǎn)替代”進(jìn)程中發(fā)揮著引領(lǐng)作用。

分析認(rèn)為，近年來隨著新能源汽車、光伏發(fā)電、工業(yè)自動化等下游新興產(chǎn)業(yè)推動，中國功率器件市場規(guī)模預(yù)計(jì)未來幾年的年平均復(fù)合增長率將達(dá)到11.58%，這將讓國內(nèi)半導(dǎo)體掩模版需求大幅增加。

事實(shí)上，不論是“國產(chǎn)替代”大趨勢下潛藏的金礦，還是下游產(chǎn)業(yè)需求進(jìn)一步提升，龍圖光罩近幾年的業(yè)績已經(jīng)呈現(xiàn)高速增長態(tài)勢。招股書顯示，2021年至2023年公司營業(yè)收入年均復(fù)合增長率為38.56%，其凈利潤的年均復(fù)合增長率更是超過了40%。

稀缺獨(dú)立第三方 業(yè)績年均復(fù)合增長率40%

在資本市場，是否具有獨(dú)家稀缺性往往是衡量一家公司價值高低的重要參考值。7月26日啟動申購的龍圖光罩則在該指標(biāo)上頗有話語權(quán)。

招股書顯示，龍圖光罩主營業(yè)務(wù)為半導(dǎo)體掩模版的研發(fā)、生產(chǎn)和銷售。半導(dǎo)體掩模版主要用于功率半導(dǎo)體、MEMS傳感器、IC封裝、模擬IC等特色工藝半導(dǎo)體領(lǐng)域，終端應(yīng)用涵蓋新能源、光伏發(fā)電、汽車電子、工業(yè)控制、無線通信、物聯(lián)網(wǎng)、消費(fèi)電子等場景。它的作用是將承載的電路圖形通過曝光的方式轉(zhuǎn)移到硅晶圓等基體材料上，從而實(shí)現(xiàn)集成電路的批量化生產(chǎn)。

值得注意的是，半導(dǎo)體掩模版行業(yè)高度依賴專有技術(shù)，具有鮮明的“Know-How”特點(diǎn)，進(jìn)入門檻較高。具體而言，掩模版是上游芯片設(shè)計(jì)公司與下游晶圓制造廠商的中間橋梁，這要求廠商既能快速理解并轉(zhuǎn)換上游芯片設(shè)計(jì)要求，又要充分了解下游晶圓制造工藝需求，制作出適配下游光刻機(jī)的掩模版。

據(jù)了解，目前半導(dǎo)體掩模版生產(chǎn)廠商可以分為晶圓廠自建配套工廠和獨(dú)立第三方掩膜廠商兩大類，而對于28nm以上等較為成熟的制程所用的掩模版，芯片制造廠商為了降低成本，在滿足技術(shù)要求下，更傾向于向獨(dú)立第三方掩模版廠商進(jìn)行采購。

龍圖光罩正是國內(nèi)稀缺的獨(dú)立第三方半導(dǎo)體掩模版生產(chǎn)商，可以說是目前Ａ股市場上唯一一家半導(dǎo)體掩模版收入占比超過9成的公司。

2021年—2023年，龍圖光罩的營業(yè)收入分別為1.13億元、1.61億元和2.18億元，年均復(fù)合增長率為38.56%。而半導(dǎo)體掩模版則是龍圖光罩的主要收入來源，報告期內(nèi)來自半導(dǎo)體掩模版的收入分別為8672.51萬元、1.38億元和1.98億元，分別占主營業(yè)務(wù)收入的76.28%、85.44%和91.1３%。

2021年—2023年，公司歸屬于發(fā)行人股東的凈利潤分別為4116.42萬元、6448.21萬元及8360.87萬元，凈利潤復(fù)合增長率超40%，盈利能力顯著提升。

有跡象顯示，這一高速增長態(tài)勢也有望持續(xù)。

近年來，受到新能源汽車、光伏發(fā)電、工業(yè)自動化、物聯(lián)網(wǎng)等下游新興產(chǎn)業(yè)的推動，以功率器件為代表的特色工藝半導(dǎo)體發(fā)展迅速，不斷進(jìn)行產(chǎn)品迭代，為半導(dǎo)體掩模版行業(yè)創(chuàng)造了大量的市場需求。

根據(jù)IBS的統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)，以新能源汽車、光伏行業(yè)中的關(guān)鍵元件功率器件為例，2021年中國功率器件市場規(guī)模約為711億元，預(yù)計(jì)到2025年市場規(guī)模將增長至1102億元，年平均復(fù)合增長率11.58%。同時，國內(nèi)主要特色工藝晶圓廠均在積極擴(kuò)充產(chǎn)線，這將讓國內(nèi)半導(dǎo)體掩模版的配套需求大幅增加。

以2024年預(yù)計(jì)業(yè)績?yōu)槔餐嘎冻隽朔e極增長信號。公司預(yù)計(jì)2024年1-6月營業(yè)收入約1.25億元至1.3億元左右，與上年同期相比增長約21.17%至26.02%左右；預(yù)計(jì)2024年1-6月歸屬于母公司股東的凈利潤約4800萬元至5000萬元左右，與上年同期相比增長約19.41%至24.39%左右。

研發(fā)費(fèi)用率行業(yè)領(lǐng)先 技術(shù)積累筑高門檻

.行業(yè)前景具有藍(lán)海特質(zhì)，但也只有真正掌握技術(shù)優(yōu)勢的企業(yè)能夠乘風(fēng)破浪。

招股書顯示，龍圖光罩在高精度半導(dǎo)體掩模版領(lǐng)域持續(xù)進(jìn)行設(shè)備引進(jìn)與技術(shù)攻關(guān)，針對半導(dǎo)體掩模版的工藝特點(diǎn)，掌握了多項(xiàng)自主研發(fā)的核心技術(shù)，包括圖形補(bǔ)償技術(shù)、精準(zhǔn)對位標(biāo)記技術(shù)、光刻制程管控技術(shù)、曝光精細(xì)化控制技術(shù)、缺陷修補(bǔ)與異物去除技術(shù)等，涵蓋CAM、光刻、檢測三大環(huán)節(jié)；同時，公司還積極開展技術(shù)布局與儲備，儲備了電子束光刻技術(shù)及PSM相移掩模版技術(shù)，形成了一定的技術(shù)成果。

目前，公司已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了130nm工藝節(jié)點(diǎn)半導(dǎo)體掩模版的量產(chǎn)，具備±20nm的CD精度和套刻精度，其技術(shù)實(shí)力和工藝能力在中國的第三方半導(dǎo)體掩模版廠商中居于領(lǐng)先地位。截至2023年12月31日，公司擁有發(fā)明專利16項(xiàng)，實(shí)用新型專利27項(xiàng)，計(jì)算機(jī)軟件著作權(quán)36項(xiàng)。

憑借強(qiáng)大的研發(fā)實(shí)力、持續(xù)的自主創(chuàng)新能力等，公司也獲得了工信部專精特新“小巨人”企業(yè)認(rèn)定、廣東省功率半導(dǎo)體芯片掩模版工程技術(shù)研究中心認(rèn)定、廣東省專精特新中小企業(yè)認(rèn)定、國家高新技術(shù)企業(yè)認(rèn)定等。

事實(shí)上，龍圖光罩之所以能在技術(shù)上得到多重認(rèn)可，源于其多年來對研發(fā)的不遺余力。2021-2023年，龍圖光罩在研發(fā)上分別投入了931.80萬元、1533.31萬元和2017.59萬元，占營業(yè)收入的比例分別為8.20%、9.49%和9.24%。

同期間，公司研發(fā)費(fèi)用的年均復(fù)合增長率達(dá)到了47.15%，而與同行業(yè)上市公司相比，龍圖光罩的研發(fā)費(fèi)用率也在較高水平。2021-2023年，公司的研發(fā)費(fèi)用率分別為8.2％、9.49％、9.24%，而清溢光電、路維光電的研發(fā)費(fèi)用率則分別為6.77%、5.87%、5.3%和4.66%、4.44%、5.24%。

此外，龍圖光罩研發(fā)中心的人才隊(duì)伍從2021年末的26人也增長至2023年末的42人。其研發(fā)團(tuán)隊(duì)在半導(dǎo)體掩模版領(lǐng)域擁有豐富的技術(shù)經(jīng)驗(yàn)和專業(yè)知識，具備高效的技術(shù)轉(zhuǎn)化能力。而為了進(jìn)一步提升研發(fā)實(shí)力，公司仍在不斷吸引和培養(yǎng)優(yōu)秀人才，積極與高校和科研院所開展合作，以實(shí)現(xiàn)技術(shù)創(chuàng)新和突破。

穩(wěn)定優(yōu)質(zhì)客戶群助力未來發(fā)展

資質(zhì)稀缺、技術(shù)領(lǐng)先，也為龍圖光罩帶來了業(yè)績增長的重要保障——穩(wěn)定的大客戶資源。

據(jù)招股書，經(jīng)過多年的發(fā)展，公司憑借其扎實(shí)的技術(shù)實(shí)力、優(yōu)質(zhì)的服務(wù)和可靠的產(chǎn)品質(zhì)量，贏得了下游客戶的廣泛認(rèn)可。公司已經(jīng)與眾多知名客戶建立了長期穩(wěn)定的合作關(guān)系，并形成了優(yōu)質(zhì)的客戶結(jié)構(gòu)。這些客戶不僅包括芯片制造廠商、MEMS傳感器廠商、先進(jìn)封裝廠商，還包括進(jìn)行基礎(chǔ)技術(shù)研究的知名高校及科研院所。

同時，下游客戶對半導(dǎo)體掩模版廠商的要求較高，認(rèn)證周期也較長。因此，一旦與下游客戶建立了合作關(guān)系，客戶不會輕易更換供應(yīng)商，形成了較強(qiáng)的客戶黏性。公司的產(chǎn)品已經(jīng)通過了多個國內(nèi)知名晶圓制造廠商的認(rèn)證，如中芯集成、士蘭微、積塔半導(dǎo)體、新唐科技、比亞迪半導(dǎo)體、立昂微、燕東微、粵芯半導(dǎo)體、長飛先進(jìn)、揚(yáng)杰科技等。

2021年—2023年，龍圖光罩石英掩模版的產(chǎn)銷率分別為99.77%、99.49%、99.82%；蘇打掩模版的產(chǎn)銷率分別為99.97%、100.11%、100.06%，漂亮數(shù)據(jù)的背后自然也有優(yōu)質(zhì)穩(wěn)定的客戶群的功勞。

此外，產(chǎn)銷率始終處于較高水平的同時，龍圖光罩的主要產(chǎn)品平均單價也在持續(xù)攀升，報告期內(nèi)的平均單價同比增幅分別為28.10%、18.47%。同時，報告期內(nèi)公司主營業(yè)務(wù)毛利率分別為59.73%、61.03%和58.87%，而同行業(yè)可比公司平均水平為31.01%、36.88%、35.53%。

根據(jù)SEMI數(shù)據(jù)、CEMIA數(shù)據(jù)，作為半導(dǎo)體材料的重要組成部分，掩模版占半導(dǎo)體材料市場規(guī)模的比例約為12%，僅次于硅片和電子特氣，2023年全球半導(dǎo)體掩模版市場規(guī)模為95.28億美元，2023年中國半導(dǎo)體掩模版的市場規(guī)模約為17.78億美元。未來隨著半導(dǎo)體行業(yè)容量的持續(xù)上升，半導(dǎo)體掩模版市場規(guī)模將不斷提升。

通過本次上市，龍圖光罩將持續(xù)加大技術(shù)創(chuàng)新投入，本次擬募集資金6.63億元，將直接用于電子束光刻機(jī)等一系列高端設(shè)備購置及產(chǎn)線建設(shè)，推動90nm、65nm及更高制程節(jié)點(diǎn)半導(dǎo)體掩模版的技術(shù)突破，補(bǔ)強(qiáng)產(chǎn)業(yè)發(fā)展短板，提升自主可控水平。

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