美光CEO：將向日本半導(dǎo)體工廠引入EUV光刻機(jī)

日經(jīng)中文網(wǎng)5月18日消息，美國半導(dǎo)體存儲芯片制造商美光科技公司將在今后數(shù)年向日本廣島縣的DRAM工廠等日本國內(nèi)投資最多5000億日元。在日本政府的支援政策下，美光將在廣島縣的工廠引進(jìn)最尖端的生產(chǎn)線。美光首席執(zhí)行官（CEO）桑喬伊·莫羅特亞（SanjayMehrotra）在接受采訪時透露了上述消息。公司還計劃引進(jìn)尖端的光刻設(shè)備，生產(chǎn)下一代的存儲芯片。

莫羅特亞表示：“我們將在日本國內(nèi)首次引進(jìn)極紫外（EUV）光刻設(shè)備，自2026年左右開始生產(chǎn)最尖端產(chǎn)品”。美光到2025年將向日本引進(jìn)極紫外光刻機(jī)，完善相關(guān)體制。但其并未透露日本政府的具體援助金額。（界面）