新三板創(chuàng)新層公司原子高科新增專利信息授權(quán)：“一種β平面源”

每經(jīng)訊，據(jù)啟信寶，新三板創(chuàng)新層公司原子高科（430005）新增專利信息，專利權(quán)人為原子高科，發(fā)明人是劉明陽、高巖、任春俠、陳伊婷、李翔、焦華潔。專利授權(quán)日為2024年6月4日，專利名稱為“一種β平面源”，專利類型為中國實用新型專利，專利申請?zhí)枮镃N202323168616.3。

該專利摘要顯示：本實用新型涉及β放射源技術領域，尤其涉及一種β平面源。該β平面源包括源芯、源殼和墊片；所述源芯封裝于所述源殼和所述墊片中，所述源芯包括依次層疊設置的PET膜、放射性核素、EVA膜和鋁箔；所述源殼的頂部設有活性區(qū)開口；所述鋁箔與所述源殼的頂部相連，所述PET膜與所述墊片相連。本實用新型提供的β平面源對核素的普適性好，而且該β平面源具有β粒子損失小，牢固性高，均勻性好等優(yōu)點。

(記者 曾健輝)

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