上海新陽：晶圓及先進(jìn)封裝材料國內(nèi)領(lǐng)先，高端光刻膠進(jìn)展順利（開源證券研報(bào)）

每經(jīng)AI快訊，2024年1月3日，開源證券發(fā)布研報(bào)點(diǎn)評上海新陽（300236）。

國內(nèi)電鍍液及清洗液龍頭，積極拓展新業(yè)務(wù)，首次覆蓋給予“買入”評級

公司是國內(nèi)唯一能夠滿足芯片90-14納米銅制程全部技術(shù)節(jié)點(diǎn)對電鍍、清洗產(chǎn)品要求的本土企業(yè)，同時(shí)積極進(jìn)軍光刻膠、拋光液領(lǐng)域，并在上海工廠和合肥新工廠積極規(guī)劃產(chǎn)能，未來業(yè)績有望快速增長。預(yù)計(jì)2023-2025年公司實(shí)現(xiàn)凈利潤1.45億元、2.00億元、2.67億元，EPS 0.46、0.64、0.85元，當(dāng)前股價(jià)對應(yīng)PE為75.5、54.8、40.9倍，首次覆蓋給予“買入”評級。

公司電鍍液及添加劑和清洗液技術(shù)國內(nèi)領(lǐng)先，打入頭部客戶供應(yīng)鏈

公司電鍍液及添加劑產(chǎn)品已覆蓋90-14nm技術(shù)節(jié)點(diǎn)；干法蝕刻后清洗液已經(jīng)實(shí)現(xiàn)14nm以上技術(shù)節(jié)點(diǎn)全覆蓋，20-14nm電鍍液及添加劑已實(shí)現(xiàn)銷售；用于存儲(chǔ)器芯片的原創(chuàng)新產(chǎn)品氮化硅蝕刻液打破國外壟斷，并與客戶共同開發(fā)、驗(yàn)證更高層級的產(chǎn)品系列；用于銅拋光后清洗液產(chǎn)品開發(fā)完成，已進(jìn)入到客戶端。芯片制造用銅互連電鍍液及添加劑、蝕刻后清洗液、氮化硅刻蝕液產(chǎn)品已大規(guī)模供應(yīng)國內(nèi)集成電路生產(chǎn)制造企業(yè)。

公司積極規(guī)劃產(chǎn)能，在光刻膠、拋光液領(lǐng)域構(gòu)建第二、第三成長曲線

上海工廠完成改擴(kuò)建后產(chǎn)能達(dá)1.9萬噸/年。合肥新工廠一期1.7萬噸/年的產(chǎn)品產(chǎn)能，預(yù)計(jì)2023年年底試生產(chǎn)，二期項(xiàng)目目前處于同步建設(shè)階段。公司自主研發(fā)的KrF光刻膠持續(xù)通過認(rèn)證客戶，已在國內(nèi)主流晶圓制造廠商處實(shí)現(xiàn)供貨，ArF光刻膠目前處于客戶端認(rèn)證階段。拋光液方面，目前已有成熟的SiO2體系的拋光液成功進(jìn)入客戶端，實(shí)現(xiàn)銷售，CeO2體系的部分產(chǎn)品已在客戶產(chǎn)線上線測試，性能良好，公司的第二、第三成長曲線正逐步成型。

風(fēng)險(xiǎn)提示：下游景氣度下滑、新產(chǎn)品開發(fā)不及預(yù)期、新產(chǎn)品推廣不及預(yù)期。

(來源：慧博投研)

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(編輯 曾健輝)