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南大光電擬加碼光刻膠產(chǎn)業(yè) 斥資6億建材料配套項目

每日經(jīng)濟(jì)新聞 2019-10-23 20:01:11

對于此番投建的項目,南大光電特別在公告中強(qiáng)調(diào),項目與公司正在推進(jìn)的“193nm光刻膠項目”系兩個獨立的項目。公司稱,投建新項目是為加大對先進(jìn)光刻膠材料以及配套原材料的建設(shè)。

每經(jīng)記者 曾劍    每經(jīng)編輯 陳俊杰    

光刻膠概念股南大光電(300346,SZ)10月23日下午公告,擬投資新建光刻膠材料以及配套原材料項目。

光刻膠項目是南大光電最大的看點。在此前A股光刻膠概念炒作中,公司股票也受到了資金追捧。此番,南大光電宣布加碼光刻膠產(chǎn)業(yè)值得關(guān)注。

擬投建光刻膠材料配套項目

南大光電公告稱,公司與寧波經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)管理委員會簽署了《投資協(xié)議書》。按照協(xié)議,上市公司擬在寧波經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)投資開發(fā)高端集成電路制造用各種先進(jìn)光刻膠材料以及配套原材料和底部抗反射層等高純配套材料,形成規(guī)?;a(chǎn)能力,建立配套完整的國產(chǎn)光刻膠產(chǎn)業(yè)鏈。

項目計劃總投資6億元,預(yù)計總用地50畝。項目完全達(dá)產(chǎn)后,預(yù)計實現(xiàn)約10億元的年銷售額,年利稅預(yù)計約2億元。

資料顯示,南大光電主要從事高純電子材料研發(fā)、生產(chǎn)和銷售,通過承擔(dān)國家重大技術(shù)攻關(guān)項目并實現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化。目前,公司形成MO源、電子特氣、ALD/CVD前驅(qū)體材料等業(yè)務(wù)板塊。

《每日經(jīng)濟(jì)新聞》記者注意到,2017年,南大光電承擔(dān)了集成電路芯片制造用關(guān)鍵核心材料之一的“193nm光刻膠材料的研發(fā)與產(chǎn)業(yè)化項目”(以下簡稱193nm光刻膠項目)。

南大光電2019年半年報表示,公司組建了包括高級光刻膠專業(yè)人才的獨立研發(fā)團(tuán)隊,建成1500平方米的研發(fā)中心和百升級光刻膠中試生產(chǎn)線。目前,南大光電“193nm光刻膠及配套材料關(guān)鍵技術(shù)研究項目”的研發(fā)工作已經(jīng)完成,正在等待驗收。同時,公司設(shè)立了光刻膠事業(yè)部,并成立了全資子公司寧波南大光電材料,推進(jìn)“193nm光刻膠項目”的落地實施。在2019年半年報中,南大光電預(yù)計其將在2019年底在寧波建成一條光刻膠生產(chǎn)線。

對于此番投建的項目,南大光電特別在公告中強(qiáng)調(diào),項目與公司正在推進(jìn)的“193nm光刻膠項目”系兩個獨立的項目。公司稱,投建新項目是為加大對先進(jìn)光刻膠材料以及配套原材料的建設(shè)。

曾因光刻膠概念股身份受捧

光刻膠被認(rèn)為是半導(dǎo)體光刻領(lǐng)域必不可少的關(guān)鍵材料。光刻膠的質(zhì)量和性能直接決定集成電路的性能、良率。廣發(fā)證券曾表示,伴隨著先進(jìn)節(jié)點所需光刻膠分辨率的提升以及多次圖形化技術(shù)的應(yīng)用,光刻膠的成本占比以及市場規(guī)模呈現(xiàn)不斷提升趨勢,根據(jù)國際半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)協(xié)會的數(shù)據(jù),2018年光刻膠占晶圓制造材料比例約為5.4%,對應(yīng)全球半導(dǎo)體光刻膠市場總規(guī)模為17.3億美元,預(yù)計2019年市場規(guī)模可達(dá)17.7億美元。 

由于半導(dǎo)體光刻膠技術(shù)壁壘很高,供應(yīng)廠商目前主要集中在美國和日本。目前來看,國內(nèi)僅有晶瑞股份(300655,SZ)、科華微電子、南大光電、容大感光(300576,SZ)、上海新陽等企業(yè)在進(jìn)行半導(dǎo)體光刻膠生產(chǎn)與研發(fā)。

《每日經(jīng)濟(jì)新聞》記者注意到,今年下半年,日本與韓國發(fā)生貿(mào)易摩擦,日本對韓國進(jìn)行出口限制,其中便包含光刻膠材料。在此情況下,A股相關(guān)光刻膠概念股也一度受到資金追捧,這便包括了南大光電。7月中旬,公司股價曾連續(xù)漲停,8月15日~9月5日,公司股價在16個交易日里累計上漲64.70%。

國海證券曾指出,“193nm光刻膠項目”是南大光電未來最值得期待的看點。在國海證券看來,南大光電研發(fā)的ArF光刻膠是目前僅次于EUV光刻膠以外難度最高,制程最先進(jìn)的光刻膠,也是集成電路22nm、14nm乃至10nm制程的關(guān)鍵。國海證券認(rèn)為,掌握這項核心技術(shù),不僅具有經(jīng)濟(jì)價值,更具有重大戰(zhàn)略意義。 

封面圖片來源:攝圖網(wǎng)

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