蘇大維格：可為國內外高等院所和企業(yè)提供自主可控的直寫光刻技術和光電子材料與器件技術方案

蘇大維格（300331.SZ）12月10日在投資者互動平臺表示，公司激光直寫光刻系列設備，可為國內外高等院所和企業(yè)提供自主可控的直寫光刻技術和光電子材料與器件技術方案，包括微納光學材料、MEMS產品、射頻器件、濾波器件等產品的研發(fā)與制造，也可為今后裸眼3D顯示、光子晶體、半導體功率芯片等研發(fā)和制備等方面，提供前沿性和實用性納米光刻工具。公司相關設備收入占比較低，請注意風險，詳細情況您還可參見公司定期報告、官方網站、官方微信公眾號等相關信息，同時提請您注意相關技術推廣與應用過程中存在的不確定風險

(記者 蔡鼎)

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