蘇大維格：可為國內(nèi)外高等院所和企業(yè)提供自主可控的直寫光刻技術(shù)和光電子材料與器件技術(shù)方案

蘇大維格（300331.SZ）12月10日在投資者互動(dòng)平臺(tái)表示，公司激光直寫光刻系列設(shè)備，可為國內(nèi)外高等院所和企業(yè)提供自主可控的直寫光刻技術(shù)和光電子材料與器件技術(shù)方案，包括微納光學(xué)材料、MEMS產(chǎn)品、射頻器件、濾波器件等產(chǎn)品的研發(fā)與制造，也可為今后裸眼3D顯示、光子晶體、半導(dǎo)體功率芯片等研發(fā)和制備等方面，提供前沿性和實(shí)用性納米光刻工具。公司相關(guān)設(shè)備收入占比較低，請(qǐng)注意風(fēng)險(xiǎn)，詳細(xì)情況您還可參見公司定期報(bào)告、官方網(wǎng)站、官方微信公眾號(hào)等相關(guān)信息，同時(shí)提請(qǐng)您注意相關(guān)技術(shù)推廣與應(yīng)用過程中存在的不確定風(fēng)險(xiǎn)

(記者 蔡鼎)

免責(zé)聲明：本文內(nèi)容與數(shù)據(jù)僅供參考，不構(gòu)成投資建議，使用前核實(shí)。據(jù)此操作，風(fēng)險(xiǎn)自擔(dān)。