蘇大維格連續(xù)大漲，“納米壓印”能否替代傳統(tǒng)光刻？實(shí)驗(yàn)室已實(shí)現(xiàn)10+nm

每經(jīng)記者 朱成祥    每經(jīng)編輯 陳俊杰    

近期，資本市場(chǎng)對(duì)于光刻機(jī)的關(guān)注持續(xù)火熱。此前受益于“光刻機(jī)”概念，張江高科（600895.SH，股價(jià)23.61元，市值365.65億元）等多股連續(xù)上漲。

9月14日，隨著蘇大維格在互動(dòng)易回復(fù)光刻機(jī)相關(guān)問(wèn)題，“納米壓印”概念迅速火熱。午后，蘇大維格股價(jià)迅速拉升，并實(shí)現(xiàn)20%漲停。

彼時(shí)，蘇大維格表示：“公司光刻機(jī)已實(shí)現(xiàn)向國(guó)內(nèi)龍頭芯片企業(yè)的銷(xiāo)售，并已實(shí)現(xiàn)向日本、韓國(guó)、以色列等國(guó)家的出口；同時(shí)，公司向國(guó)內(nèi)相關(guān)芯片光刻機(jī)廠(chǎng)商提供了定位光柵尺部件。”

據(jù)蘇大維格在互動(dòng)易所述，其光刻機(jī)產(chǎn)品為激光直寫(xiě)光刻機(jī)。對(duì)于該類(lèi)型光刻機(jī)的用途，《每日經(jīng)濟(jì)新聞》記者9月15日咨詢(xún)了與非網(wǎng)副主編夏珍，其表示：“據(jù)我所知，激光直寫(xiě)光刻機(jī)是用于掩膜版的制造，替代傳統(tǒng)的鉻玻璃掩膜版，具有靈活性高的特點(diǎn)，與平常我們所說(shuō)的光刻機(jī)不是一回事兒。”

9月15日早間，蘇大維格便收到深交所關(guān)注函。不過(guò)，截至午間收盤(pán)，蘇大維格報(bào)37.47元/股，上漲13.13%。

此光刻機(jī)非彼光刻機(jī)

傳統(tǒng)光刻機(jī)包括EUV（極紫外）光刻機(jī)、DUV（深紫外）光刻機(jī)。此外，更早也有i線(xiàn)和g線(xiàn)光刻機(jī)。上述均屬于較為先進(jìn)的半導(dǎo)體光刻機(jī)。除了半導(dǎo)體用，光刻機(jī)也用于面板、PCB（印刷電路板）的制造中。

自蘇大維格稱(chēng)已實(shí)現(xiàn)向國(guó)內(nèi)龍頭芯片企業(yè)的銷(xiāo)售后，有投資者也追問(wèn)：“公司光刻設(shè)備對(duì)比全世界同行業(yè)處于什么階段？未來(lái)有沒(méi)有和國(guó)內(nèi)同行合作研發(fā)制造光刻機(jī)計(jì)劃？”

對(duì)此，蘇大維格解釋?zhuān)?ldquo;在大類(lèi)上，光刻機(jī)主要有兩種類(lèi)型。第一類(lèi)是掩膜光刻機(jī)，如ASML的EUV設(shè)備，好比‘復(fù)印機(jī)’，把掩膜上的圖形投射到硅片上，可用于各類(lèi)芯片的批量生產(chǎn)，這類(lèi)光刻機(jī)技術(shù)工藝和材料難度極高；第二類(lèi)是無(wú)掩膜光刻機(jī)，也稱(chēng)直寫(xiě)光刻機(jī)，包括激光直寫(xiě)光刻機(jī)和電子束光刻機(jī)等，用于直接將數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)變成相關(guān)圖形，好比‘打印機(jī)’，可用于芯片/液晶掩膜、光模具及其他微結(jié)構(gòu)的制備。”

關(guān)注函中，深交所也要求蘇大維格結(jié)合不同類(lèi)型光刻設(shè)備的技術(shù)路線(xiàn)的差異，補(bǔ)充披露公司所生產(chǎn)光刻設(shè)備的具體類(lèi)型、主要客戶(hù)及下游用途、以及最近一年一期境內(nèi)外銷(xiāo)售情況，并核實(shí)說(shuō)明公司光刻設(shè)備是否能夠直接用于芯片研發(fā)及制造、主要技術(shù)參數(shù)是否與業(yè)內(nèi)龍頭廠(chǎng)商存在較大差距，并進(jìn)一步提示相關(guān)風(fēng)險(xiǎn)。

在上述投資者關(guān)系平臺(tái)回復(fù)中，蘇大維格曾表示：“目前，公司對(duì)外銷(xiāo)售的光刻機(jī)主要為激光直寫(xiě)光刻機(jī)，其中在科研教育領(lǐng)域具有一定的知名度和市場(chǎng)占有率，在其他行業(yè)和領(lǐng)域已實(shí)現(xiàn)的銷(xiāo)售金額相對(duì)較小，部分應(yīng)用領(lǐng)域離國(guó)際先進(jìn)水平具有一定差距，需要持續(xù)的研發(fā)投入。”

“納米壓印”能否替代傳統(tǒng)光刻？

除了光刻機(jī)的銷(xiāo)售信息，蘇大維格9月14日還提及“納米壓印”技術(shù)。在回復(fù)“納米壓印技術(shù)有沒(méi)有替代EUV光刻機(jī)的可能性”時(shí)，蘇大維格稱(chēng)：“根據(jù)相關(guān)資訊，佳能等國(guó)際廠(chǎng)商擬試圖通過(guò)納米壓印技術(shù)在部分集成電路領(lǐng)域替代EUV光刻設(shè)備實(shí)現(xiàn)更低成本的芯片量產(chǎn)。”

此外，蘇大維格也表示：“納米壓印光刻領(lǐng)域，公司設(shè)備主要為自用，對(duì)外銷(xiāo)售金額與直寫(xiě)光刻機(jī)相比較小。”

也就是說(shuō)，蘇大維格對(duì)外銷(xiāo)售的光刻機(jī)主要是直寫(xiě)光刻機(jī)，納米壓印主要是自用。

那么，蘇大維格自身?yè)碛?ldquo;納米壓印”技術(shù)嗎？深交所要求其說(shuō)明：“你公司納米壓印技術(shù)的具體用途、研發(fā)情況，以及在集成電路領(lǐng)域的布局情況，并充分提示相關(guān)風(fēng)險(xiǎn)。”

關(guān)于納米壓印技術(shù)能否替代EUV光刻機(jī)，夏珍向記者解釋?zhuān)?ldquo;納米壓印可潛在替代EUV、DUV。當(dāng)DUV（技術(shù)）再往下走，日本廠(chǎng)商并沒(méi)有選擇EUV，而是采用了‘納米壓印’（Nanoimprint Lithography，NIL）技術(shù)，來(lái)開(kāi)發(fā)新一代的設(shè)備。納米壓印技術(shù)和現(xiàn)在市場(chǎng)上的光刻技術(shù)有所不同?；诠鈱W(xué)的曝光機(jī)，也就是我們常說(shuō)的光刻機(jī)，從Reticle（掩膜版）到晶圓是4：1的縮小比例，而納米壓印技術(shù)下的Reticle選用特殊加工方法，從Reticle到晶圓是等比例的。這意味著只要Reticle能做到5nm，就能壓印出5nm的東西。”

夏珍補(bǔ)充表示：“此外，采用納米壓印技術(shù)的成本較低，低成本主要體現(xiàn)在兩個(gè)方面，一是設(shè)備本身的成本低，二是在使用的過(guò)程中用電量低。”

那么，納米壓印技術(shù)目前進(jìn)展如何呢？夏珍介紹：“目前基于納米壓印技術(shù)的設(shè)備還沒(méi)量產(chǎn)，處于量產(chǎn)評(píng)價(jià)階段，但從實(shí)驗(yàn)室的角度來(lái)看，已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了10+nm，未來(lái)將進(jìn)一步拓展至5nm。”

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