天準科技：目前公司蘇州團隊和MueTec團隊正在合作開發(fā)更先進制程的套刻誤差量測設備

每經AI快訊，有投資者在投資者互動平臺提問：公司之前提到過已有光刻對準檢驗機產品并中標過上海新微半導體采購項目，請問光刻對準檢驗機載半導體光刻各流程環(huán)節(jié)中起什么作用？國產替代前景如何？謝謝

天準科技（688003.SH）9月12日在投資者互動平臺表示，MueTec于2021年中標上海新微套刻誤差量測設備。套刻（Overlay）誤差量測設備主要用于量測半導體制造工藝中前后疊層之間對準的套刻誤差，MueTec的套刻（Overlay）誤差量測設備可覆蓋65-90nm工藝節(jié)點，目前公司蘇州團隊和MueTec團隊正在合作開發(fā)更先進制程的套刻誤差量測設備。

(記者 蔡鼎)

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