奧普光電：在敞開式光柵尺的基礎(chǔ)上，已開始高精度光柵刻劃的研究工作

每經(jīng)AI快訊，有投資者在投資者互動(dòng)平臺(tái)提問：請(qǐng)問老師，按照上次貴司的回復(fù)，高精尺的精度還偏低端，貴司目前在高精尺的研發(fā)上有什么進(jìn)展？能具體展開一下嗎？

奧普光電（002338.SZ）7月22日在投資者互動(dòng)平臺(tái)表示，在敞開式光柵尺的基礎(chǔ)上，已開始高精度光柵刻劃的研究工作，并完成了理論驗(yàn)證，預(yù)計(jì)在年底之前可完成高精度（±1um）光柵尺的正式樣機(jī)；同時(shí)開展了超精尺的研發(fā)工作，尚處于原理樣機(jī)開發(fā)階段。

(記者 蔡鼎)

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