ASML回應(yīng)荷蘭半導(dǎo)體出口管制新規(guī)：并不適用于所有浸入式光刻設(shè)備

每經(jīng)AI快訊，3月9日，荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥（ASML）9日上午發(fā)布聲明表示，ASML預(yù)計(jì)必須申請(qǐng)?jiān)S可證方可出口DUV設(shè)備。同時(shí)公司還表示“新的出口管制措施并不針對(duì)所有浸潤(rùn)式光刻系統(tǒng)，先進(jìn)程度相對(duì)較低的浸潤(rùn)式光刻系統(tǒng)已能很好滿足成熟制程為主的客戶的需求。”荷蘭政府在3月8日表示，計(jì)劃對(duì)半導(dǎo)體技術(shù)出口實(shí)施新的管制。據(jù)悉，決定是由荷蘭貿(mào)易部長(zhǎng)Liesje Schreinemacher在致荷蘭議會(huì)的一封信中宣布的。信中稱，這些管制措施將在今天夏天之前開(kāi)始實(shí)施。盡管信中并沒(méi)有指名道姓地點(diǎn)出ASML和其合作伙伴，但是ASML在最新的聲明中指出，這些新的出口管制措施側(cè)重于先進(jìn)的芯片制造技術(shù)，包括最先進(jìn)的沉積設(shè)備和浸潤(rùn)式光刻系統(tǒng)。 (第一財(cái)經(jīng))