新三板創(chuàng)新層公司大樹智能新增專利信息授權(quán)：“用于光譜除雜中的負(fù)壓除塵裝置”

每經(jīng)訊，據(jù)啟信寶，新三板創(chuàng)新層公司大樹智能（430607）新增專利信息，專利權(quán)人為大樹智能，發(fā)明人是張德森、靳奇、王凱、王李蘇。專利授權(quán)日為2024年8月13日，專利名稱為“用于光譜除雜中的負(fù)壓除塵裝置”，專利類型為中國實(shí)用新型專利，專利申請?zhí)枮镃N202322722167.6。

該專利摘要顯示：本實(shí)用新型提供了用于光譜除雜中的負(fù)壓除塵裝置，包括，帶有氣流雜質(zhì)的除雜設(shè)備，所述除雜設(shè)備出口處朝上外延形成外延管路；與所述外延管路連接的落料組件，所述落料組件內(nèi)設(shè)有用于過濾固體雜質(zhì)的過濾腔，所述過濾腔的出口朝上延伸與位于過濾腔上方的負(fù)壓除塵管路連接；所述落料組件下方設(shè)有倒流管道，所述倒流管道與除雜設(shè)備底部的雜物收集料斗相通，所述外延管路以及負(fù)壓除塵管路中，均至少設(shè)置一級固氣分離組件。本實(shí)用新型中利用負(fù)壓原理，吸附了除雜設(shè)備中氣流中的雜質(zhì)，使得氣固分離，同時(shí)固體雜質(zhì)還能夠進(jìn)入除雜設(shè)備底部的雜物收集料斗中，實(shí)現(xiàn)很好的收集。

(記者 曾健輝)

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