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新三板創(chuàng)新層公司宇迪光學(xué)新增專利信息授權(quán):“一種流量可控式雙面研磨機(jī)及平面鏡加工設(shè)備”

每日經(jīng)濟(jì)新聞 2024-06-23 22:21:20

每經(jīng)訊,據(jù)啟信寶,新三板創(chuàng)新層公司宇迪光學(xué)(831934)新增專利信息,專利權(quán)人為宇迪光學(xué),發(fā)明人是冒建軍、冒晶晶。專利授權(quán)日為2024年6月21日,專利名稱為“一種流量可控式雙面研磨機(jī)及平面鏡加工設(shè)備”,專利類型為中國實(shí)用新型專利,專利申請?zhí)枮镃N202322599074.9。

該專利摘要顯示:本實(shí)用新型屬于平面鏡加工的技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種流量可控式雙面研磨機(jī)及平面鏡加工設(shè)備。所述雙面研磨機(jī)包括下研磨盤和上研磨盤,所述上研磨盤的上部周向上貫穿有若干個(gè)輸送管且其頂部通過輸送管連通有儲(chǔ)液盤,所述儲(chǔ)液盤內(nèi)部安裝有液位傳感器且其頂部扣合有蓋板,所述蓋板上開設(shè)有輸液孔并通過輸液孔貫穿連接有輸液管,所述輸液管通過輸液孔貫穿蓋板并延伸至儲(chǔ)液盤內(nèi)部且其端部通過儲(chǔ)液盤與輸送管連通設(shè)置,所述輸送管的端部貫穿上研磨盤且其出口與下研磨盤連通設(shè)置。本實(shí)用新型無需人工判斷輸送流量,解決了因人工判斷操作失誤而造成研磨液或磨削液溢出污染環(huán)境的問題,保證了平面鏡的打磨效果以及雙面研磨機(jī)的使用壽命。

 

(記者 曾健輝)

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