新三板創(chuàng)新層公司富耐克新增專利信息授權(quán)：“一種晶片拋光用耐磨拋光墊”

每經(jīng)訊，據(jù)啟信寶，新三板創(chuàng)新層公司富耐克（831378）新增專利信息，專利權(quán)人為富耐克，發(fā)明人是雷君、王彬彬、李和鑫。專利授權(quán)日為2023年6月23日，專利名稱為“一種晶片拋光用耐磨拋光墊”，專利類型為中國實用新型專利，專利申請?zhí)枮镃N202223278384.2。

該專利摘要顯示：一種晶片拋光用耐磨拋光墊，涉及拋光技術(shù)領(lǐng)域，包括基體，基體的材質(zhì)為聚晶立方氮化硼，基體的上表面形成拋光面，拋光面上均勻分布有若干凸起，相鄰兩凸起之間形成溝槽，本實用新型提供的拋光墊硬度均勻性一致，耐磨性及導(dǎo)熱性優(yōu)異，顯著提高材料的物理機(jī)械性能，滿足強(qiáng)度和韌性的基礎(chǔ)上，具備較低的內(nèi)生熱及更好的動態(tài)性能，使其更適用于高速、高承載等動態(tài)性能要求高的工作環(huán)境中；且聚晶立方氮化硼拋光墊表面立體的結(jié)構(gòu)，能夠減少拋光墊與晶圓的相互機(jī)械作用力，促進(jìn)熱量的疏散，同時溝槽有助于拋光后的殘渣或拋光副產(chǎn)物的及時排出，不存在阻塞拋光墊表層中的微孔問題。

(記者 曾健輝)

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