新三板創(chuàng)新層公司東元環(huán)境新增專利信息授權(quán)：“一種基于膜電積工藝的銅回收及蝕刻液循環(huán)系統(tǒng)”

每經(jīng)訊，據(jù)啟信寶，新三板創(chuàng)新層公司東元環(huán)境（871248）新增專利信息，專利權(quán)人為東元環(huán)境，發(fā)明人是肖鴻博、肖樂培、肖應(yīng)東、鄧海、歐陽劍、朱定洲。專利授權(quán)日為2024年3月12日，專利名稱為“一種基于膜電積工藝的銅回收及蝕刻液循環(huán)系統(tǒng)”，專利類型為中國實用新型專利，專利申請?zhí)枮镃N202322096132.6。

該專利摘要顯示：本實用新型公開了一種基于膜電積工藝的銅回收及蝕刻液循環(huán)系統(tǒng)，包括電解槽本體和安裝塊，所述電解槽本體的內(nèi)壁安裝有安裝塊，且電解槽本體用于收集酸性蝕刻廢液；還包括彈力彈簧，其一端和所述安裝塊的底部相連接，所述彈力彈簧的另一端和濾網(wǎng)相連接；驅(qū)動電機，其通過螺栓固定在所述電解槽本體的外壁上，所述驅(qū)動電機的輸出端和轉(zhuǎn)軸相連接，且轉(zhuǎn)軸的外壁安裝有連接葉片，連接管道，其一端連接于所述電解槽本體的右側(cè)底部。該基于膜電積工藝的銅回收及蝕刻液循環(huán)系統(tǒng)，在旋轉(zhuǎn)桿帶動固定凸輪旋轉(zhuǎn)時，會帶動濾網(wǎng)進行上下晃動，通過濾網(wǎng)對酸性蝕刻廢液中的大顆粒物質(zhì)進行攔截，使進入電解槽本體內(nèi)部的物質(zhì)更加均勻，提高反應(yīng)效果。

(記者 曾健輝)

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