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國林科技：公司目前研制的高濃度臭氧氣體發(fā)生器設(shè)備可用于薄膜沉積工藝的氧化成膜

每日經(jīng)濟新聞 2023-05-26 10:31:54

每經(jīng)AI快訊，有投資者在投資者互動平臺提問：可否介紹一下產(chǎn)品薄膜沉積設(shè)備應(yīng)用？

國林科技（300786.SZ）5月26日在投資者互動平臺表示，公司目前研制的高濃度臭氧氣體發(fā)生器設(shè)備可用于薄膜沉積工藝的氧化成膜，傳統(tǒng)的薄膜沉積制成方法有三種：PVD、CVD、ALD，PVD屬于物理方法，CVD、ALD主要利用臭氧通過化學反應(yīng)在硅片表面形成薄膜保護。

(記者 王可然)

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